|
Научная визуализация
Год выпуска: | 2014 |
Квартал: | 4 |
Том: | 6 |
Номер: | 4 |
Страницы: | 72-95 |
|
Название публикации: |
ВИЗУАЛИЗАЦИЯ И АНАЛИЗ РЕЗУЛЬТАТОВ МОЛЕКУЛЯРНО - ДИНАМИЧЕСКОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ ИНТЕНСИВНОГО ИСПАРЕНИЯ ЖИДКОСТИ В ОКОЛОКРИТИЧЕСКОЙ ОБЛАСТИ. |
Авторы: |
В.И. Мажукин (Россия), А.В. Шапранов (Россия), А.А. Самохин (Россия), А.В. Мажукин (Россия), О.Н.Королёва (Россия) |
Адреса авторов: |
В.И. Мажукин
vim@modhef.ru
Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл.4, 125047 Москва
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Москва, Россия
А.В. Шапранов
asam40@mail.ru
Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл.4, 125047 Москва
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Москва, Россия
А.А. Самохин
Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, Москва, Россия
А.В. Мажукин
Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл.4, 125047 Москва
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Москва, Россия
О.Н.Королёва
Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, Миусская пл.4, 125047 Москва
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», Москва, Россия |
Краткое описание: |
В рамках молекулярной динамики исследуется поведение тонкой жидкой пленки при ее быстром однородном нагреве со скоростью энерговклада 2-100 К/пс. Первоначальная толщина пленки вдоль оси Z составляет 48 нм. Общее количество частиц равнялось 96 000, а длина расчетной области в направлении Z задавалась равной 268 nm . В плоскости XxY использовались периодические граничные условия, а основные размеры пленки равнялись 8х8 нм. Результаты расчетов представлены в виде распределений температуры, плотности и скорости частиц в расчетной области, усредненных по плоскости пленки, а также в виде двумерных распределений плотности частиц в плоскости ZxX в диапазоне от времени нагрева от 0 до 800 пс. Визуализация и анализ полученных результатов указывают на существование четырех различных режимов поведения пленки в зависимости от скорости нагрева: квазистационарный режим с поверхностным испарением, взрывное (объемное) вскипание, спинодальный распад и разлет однофазного закритического флюида. |
Язык: |
Английский |
|
|
|